Здравствуйте, xma, Вы писали:

V>>Как показали события — иногда незаменима.
xma>да да, весь мир — только и держится на советских учёных обез..ах

Шаблон порвался? ))
Сочувствую.


V>>До этого более 5-ти лет амеры и европейцы разработать нужный лазер не могли.
V>>В РФ разработали быстро.
xma>кинь ссыль почитать (теперь вроде развитые страны отказались от сотрудничества с РФ в области научно-технического прогресса — неужели теперь мировому прогрессу хана или грозит как минимум серьёзное замедление без "советского" то задела ? что то не верится)

Ссылок надо искать много разных.
Например, про то, Что Интел и IBM в начале нулевых расписалась в неспособности создать коротковолновый лазер, на что уже потратили многие миллиарды и многие годы.
Обе компании в итоге официально выбрали курс использования обрудования для литографии от третьесторонних производителей.

Т.е. нанометры Интел — это де-факто не их нанометры, США тут не при чём.
Тоже самое в случае тайваньской TSMC.
Обе компании зависят от ASML.

А, да, русским на эту задачу потребовалось менее двух лет.
Однако, интеллектуальная собственность осталась за ASML, т.к. они выступали заказчиком и оплачивали работы.

... пока советская наука переживала хаос и распад, на Западе процесс научного поиска только набирал обороты. В США, учитывая практическую важность создания технологии фотолитографии, в сентябре 1997 года была создана так называемая Виртуальная Национальная Лаборатория (VNL), включающая кроме национальных лабораторий Министерства энергетики и частные компании, такие как Intel, Motorola, AMD. Развивали свои технологии фотолитографии и японские «тигры» – корпорации Nicon и Canon. Ну, а настоящий прорыв случился в голландском городке Эйндховен, где была основана компания ASM Lithography – дочернее предприятие корпорации Philips, самое передовое звено по производству микроэлектроники. Начав с повторения чужих экспериментов, голландцы вскоре вышли в лидеры рынка, ASML уже вК1996 году вошла в десятку производителей микропроцессоров, а к 2000 году первой в мире освоила работу с фотолитографическим оборудованием с диапазоном волн в 193 нанометра.

Было очевидно, что для того, чтобы уменьшить размеры транзисторов, нужно переходить к более коротковолновому излучению. Самая короткая длина волны, которую можно было использовать в обычной схеме проекционной литографии, принадлежала эк¬симерным лазерам и составляла 157 нм. Этот рубеж ASML взяла в 2003 году. Прыжок к более коротковолновым системам оказался очень труден – фактически надо было перепрыгнуть две пропасти одновременно. Во-первых, не существовало достаточно мощных и надежных источников более коротковолнового излучения. А во-вторых, инженеры натолкнулись на невидимый – причем, в самом буквальном смысле этого слова – барьер матушки-природы – более коротковолновое излучение поглощается всеми веществами – и в первую очередь, линзами и традиционной преломляющей оптикой самой фотолитографической установки.

Новая цель была грандиозной – использовать излучение с длиной волны 13,5 нм, диапазон почти рентгеновский. Между освоенными длинами волн и новым диапазоном, который получил название «Экстремальный Ультрафиолет», лежала настоящая пропасть.

Мосты через эти технологические пропасти наводились в научных лабораториях задолго до возникновения упомянутых проблем в проекционной литографии. Коротковолновое излучение можно передавать и фокусировать, используя оптические системы на основе многослойных интерференционных зеркал. Пионером в разработке таких зеркал был нижегородский Институт физики микроструктур (ИФМ) РАН. Надо сказать, что есть два способа заставить плазму излучать. Один – пропустить мощный электрический ток через пары какого-либо материала – что-то вроде ручной молнии. А второй – сфокусировать излучение мощного лазера на крохотную мишень, вроде того как дети поджигают все, что под руку попадется, собирая зеркальцем или линзой солнечный свет. В Институте спектроскопии (ИСАН) РАН в лаборатории спектроскопии плазмы еще с советских времен изучались методы возбуждения мощного коротковолнового излучения в плазме с температурой почти миллион градусов.

Правда, к началу нового тысячелетия оба института были в неважной форме, и многие специалисты искали себе применение в Европе и США. К примеру, заведующий лабораторией ИСАН Константин Кошелев еще и возглавлял проект в голландском Институте физики плазмы. Но нет худа без добра. Однажды в 2000 году его, как сотрудника голландского института, пригласили для консультации в исследовательское подразделение АСМЛ, которое, кстати, возглавлял один из выпускников долгопрудненского Физтеха. Проблема, с которой столкнулось АСМЛ, да и все литографическое сообщество, заключалась в слишком низкой мощности существовавших на тот момент источников коротковолнового излучения. Кошелеву предложили создать в АСМЛ лабораторию для разработки новых типов источников. Он согласился с тем, что лаборатория нужна, но предложил провести эти исследования в своей лаборатории в подмосковном Троицке, где еще с советских времен собрался коллектив первоклассных специалистов в области физики плазмы. АСМЛ рискнуло: в те времена мало кто из ведущих фирм решался заказывать какие-либо работы в России, предпочитали «покупать мозги» на вывоз – и не прогадало.

Оловянный пар
Результат не заставил себя ждать – уже через пару лет ученые ИСАН сделали кардинальный шаг – показали, что можно в несколько раз увеличить мощность излучения, если вместо привычного на тот момент ксенона возбуждать излучение в плазме другого химического элемента – олова. Это был революционный шаг, и уже в 2003 году в ИСАНе был создан прототип самого мощного на тот момент источника ЭУФ излучения на основе электрического разряда в парах олова.

Вся современная мировая литография в единицах и десятках нанометров работает уже полтора десятка лет именно по этой технологии, т.е. разработанной в РФ, и никаких альтернатив пока мест не предвидится.
И я не удивлюсь, если будущие альтернативы опять родятся в РФ. ))


V>>Плюс стоит задуматься — а стоит ли просирать очередной раз?
xma>мобилизуя кандитатов наук и топовых специалистов (не обязательно даже айтишников), имеющих оклады в разы больше средних зарплат по их региону ? (думаю что очень вряд ли)

Бгг, я не думаю, что ASML дофига заплатила нашим за разработки, бо в те времена ЗП в валюте в РФ были просто смешными.
ИМХО, будет достаточным дать нормальные ЗП, чтобы смысл уезжать пропал.
И чтобы наша интеллектуальная собственность оставалась у нас, а не уходила за бесценок за границу, что теперь не имеющие никакого отношения к современной литографии Штаты каким-то образом умудряются запрещать России пользоваться технологиями, в России же и разработанными. Театр абсурда, как ни крути.


V>>Сегодня РФ с Китаем впереди планеты всей в этом направлении, и направление обещает "выстрелить".
xma>а может и не выстрелить, да и вроде как — не для массового производство сие

Оно для ухода от чудовищной зависимости себестоимости от размера партии.
Оно для "демократизации" чипостроения, если хочешь.
Для уничтожения странной монополии, где монополией обладает не производитель чипов, а заказчик и он же ресселер.

В целом это должно дать приличный пинок развитию микроэлектроники, бо сраные "монополисты" задолбали последнее десятилетие топтаться на месте.

Ты там выше использовал эмоции для демонстрирования, насколько круты они и убоги мы? ))
У меня есть гораздо больше эмоций, чтобы поизгаляться над ничтожеством той же Интел, которая с 2012-го года никак не может обновить архитектуру своих процов.
Раньше у них поколения менялись по принципу тик-так — смена архитектуры, смена процесса.
Сейчас без смены архитектуры и часто без смены процесса, уже много лет происходит тупое (тупейшее) экстенсивное развитие.
Больше ядер, больше выч.блоков, больше кеш-памяти, больше встроенного IO на борту или смена стандартов этого IO и всё в таком духе.
Это тот самый застой, скудность мысли.
Низко пали в моих глазах.
Днище.